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本发明涉及一种用于制造半导体器件方法，包括提供衬底，所述衬底具有第一表面和第二表面，所述第一表面和第二表面彼此相对设置，其其中，所述衬底包括至少一个沟槽，所述沟槽形成在所述衬底的第一表面上，并且其中，所述沟槽的深度小于所述衬底的第二表面上的所述沟槽的深深度。如果您的计算机没有安装windowsserver2003，请单击"下一步"继续。

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\r\n\r\n。{1}br/{2}br/{3}/li{4}{5}li{6}选择【确定】。{7}/li{8}{9}li{10}选择【取消】，关闭计算机，退出windowsserver2003安装向导。

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